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半导体器件工艺流程电子工工艺流程芯片加工工艺有哪些

来源:优游彩票官方入口 作者:优游彩票注册登录浏览:22次更新:2025-04-03 01:24:39

  金融界2024年12月17日音信,国度学问产权局音讯显示,济南晶恒电子有限义务公司申请一项名为“电子元器件用相接高速镀锡工艺”的专利,公然号CN 119121336 A,申请日期为2024年9月。

  专利摘要显示,本申请属于电子元器件临蓐范畴,稀奇涉及一种电子元器件用相接高速镀锡工艺。为理会决现有技艺中电镀纯锡工艺临蓐相接性差,功用低,镀锡层质料担心靖,镀锡层存储经过容易变色,抗氧化才干差,镀锡层容易长锡须等题目,本申请供给一种电子元器件用相接高速镀锡工艺,本申请供给的工艺,通过主动上料、电解软化、高压水刀、去氧化、预浸、电镀纯锡、去离子热水洗、中和、锡守卫、风刀吹干、烘干、下料、钢带电解脱锡、二次烘干的工艺流程,升高了临蓐相接性和临蓐功用,确保了锡层的质料和抗氧化才干,有用禁绝了锡须的成长。

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